收录光刻胶相关专利技术68项
1、PS版和光刻胶用的合成树脂及制备方法
2、包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物
3、包括缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物
4、彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物
5、产生粒子少的光刻胶组合物的制造方法
6、从光刻胶和剥离液中回收有机化合物的方法
7、带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系
8、氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶
9、负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法
10、负性深紫外光刻胶
11、负作用化学放大的光刻胶组合物
12、负作用水性光刻胶组合物
13、改善光刻胶耐蚀刻性的方法
14、高分辨率映像装置用光刻胶
15、光刻胶剥离除去方法及装置
16、光刻胶剥离剂组合物
17、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法
18、光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法
19、光刻胶修整方法
20、光刻胶用抗反射组合物
21、光刻胶正胶组合物
22、光刻胶组合物
23、光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物
24、含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物
25、含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶
26、含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶
27、含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物
28、含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物
29、厚膜光刻胶的低温金属化制备方法
30、化学放大型正光刻胶组合物
31、化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法
32、化学放大型正光刻胶组合物及其树脂
33、化学增强的光刻胶
34、化学增强光刻胶及一种光刻胶组合物
35、化学增强型光刻胶组合物
36、化学增强型正光刻胶组合物
37、化学增强型正光刻胶组合物和锍盐
38、磺酸盐和光刻胶组合物
39、集成电路制造技术中可消除光刻中光刻胶毒化的工艺
40、具有联合增稠剂的带水光刻胶
41、聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用
42、聚合物和含有该聚合物的光刻胶
43、纳米压印光刻胶
44、适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末
45、水溶性负性光刻胶组合物
46、稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用
47、稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法
48、稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备
49、一种干膜光刻胶
50、一种化学放大型正光刻胶组合物
51、一种化学增强型正光刻胶组合物
52、阴极射线管的改良光刻胶及其制备方法
53、用于剥离光刻胶的组合物
54、用于深紫外光刻术的光刻胶组合物
55、用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法
56、用于深紫外线光刻胶的防反射组合物
57、用于微电子的无胺光刻胶粘接促进剂
58、用于微型平板印刷术的多环含氟聚合物及光刻胶
59、用于液晶设备的正型光刻胶组合物
60、用于正性光刻胶的混合溶剂体系
61、有机碱催化的无显影气相光刻胶
62、正向作用的光刻胶
63、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
64、正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
65、正性光刻胶
66、正性光刻胶的制作方法
67、正性光刻胶组合物的热处理方法
68、制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法
 
收录光刻胶相关期刊文献60项
1、1μm CMOS电路研制中光刻胶反向腐蚀工艺研究
2、193nm光刻胶的研制
3、248nm深紫外光刻胶
4、AZ4903光刻胶在微电机定子绕组制作中的应用
5、AZ5214光刻胶及像反转特性的实验研究
6、AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究
7、BP_212正性光刻胶的抗蚀特性研究
8、KrF准分子激光直接消融深层光刻紫外光刻胶实验研究
9、OMR_85光刻胶的研究与应用
10、RZJ_390光刻胶在VFD生产中的质量控制
11、SU_8胶光刻工艺参数优化研究
12、SU_8胶光刻工艺研究
13、ULSI用193nm光刻胶的研究进展
14、彩色液晶显示与颜料分散光刻胶
15、常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究
16、常压射频激励低温冷等离子体刻蚀光刻胶
17、超净高纯试剂与紫外光刻胶
18、叠层光刻胶牺牲层工艺研究
19、反应离子束刻蚀应用于光刻胶灰化技术研究
20、非相干光记录二维真假彩色全息图光刻胶母版技术
21、负性光刻胶刻蚀工艺研究
22、高灵敏度的酯型光敏聚酰亚胺
23、高性能大面积光刻胶版制备技术
24、高支化碱溶性丙烯酸化聚酯光刻胶的性能及成像性研究
25、高质量光刻胶微小透镜阵列的制作
26、光刻胶等效扩散长度对013μm工艺窗口的影响
27、光刻胶烘培特性研究
28、光刻胶刻蚀过程模拟的元胞自动机算法研究
29、光刻胶图形塌陷机理
30、光刻胶用环化聚异戊二烯的研制
31、光刻胶在LCD生产中的应用
32、光敏聚酰亚胺光刻工艺研究
33、光敏聚酰亚胺光刻胶成膜技术探讨
34、光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究
35、化学放大光刻胶高分子材料研究进展
36、化学放大胶在电子束光刻技术中的应用
37、环氧基紫外负性光刻胶的特性应用工艺与展望
38、基于光刻胶回流特性的平面化工艺
39、激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光过程的研究
40、吉化研制成功稀土异戊光刻原胶
41、聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶
42、聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的合成
43、离子束刻蚀过程中光刻胶收缩行为研究
44、利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究
45、连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
46、模压全息图的衍射效率与光刻胶母版沟纹深度的关系
47、耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用
48、浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能
49、去除光刻胶的新干法工艺
50、苏州瑞红正性光刻胶领先国际水平
51、微电子工业用光刻胶
52、微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究
53、微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较
54、我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展
55、一种荧光粉光刻胶通过技术鉴定
56、用接触式显微术方法研究软X射线光刻胶特性
57、用于光刻技术的新型化学放大光刻胶
58、在5m～3聚合釜中试生产稀土异戊光刻原胶
59、正性光刻胶的噪声抑制
60、自动滴胶的新型光刻胶泵